[发明专利]光刻装置,器件制造方法以及该方法制造的器件有效
申请号: | 200410059589.9 | 申请日: | 2004-05-15 |
公开(公告)号: | CN1550911A | 公开(公告)日: | 2004-12-01 |
发明(设计)人: | F·范德穆伦;H·贾科布斯;M·A·H·特肯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 肖春京 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 光刻投影装置,包括保护内部免受碰撞破坏的碰撞保护装置。该碰撞保护装置,可包括至少一个阻尼器,该阻尼器利用制动力和/或吸收碰撞力,以减小或消除对于精密和昂贵部件的损坏,该碰撞保护装置还能监控运动部件的位置和速度来测定碰撞可能发生的时间。 | ||
搜索关键词: | 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
1、一种光刻装置包括:用于提供辐射投影光束的照明系统;用于支撑构图器件的支撑结构,该构图器件用于使投影光束的横截面具有图案;保持基底的基底台;以及将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统;其特征在于:在该装置的第一部分和第二部分之间有一能避免碰撞的碰撞保护系统,该装置能被至少一个致动器系统相对移动,所述碰撞保护系统包括:至少一个传感器系统,其测定该装置所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度;和一台控制器,在所述传感器系统测定所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度预示着潜在的碰撞的时候,控制所述致动器系统来阻止第一部分和第二部分靠近到一起。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410059589.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:有机EL显示装置的驱动方法
- 下一篇:新的抗惊厥衍生物盐