[发明专利]光刻装置，器件制造方法和由此制造的器件有效
| 申请号： | 200410059599.2 | 申请日： | 2004-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1550912A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | K·J·J·M·扎亚;T·A·R·范埃佩;J·J·奥坦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图案对投射光束进行构图；包括多个突起的基底保持器，多个突起的末端限定了用于支撑基本上平坦的基底的基本上平坦的支撑平面，所述基底保持器设有提供压力的装置，用于将基底压靠在突起的末端；设置在基底保持器的边缘区域的突起用于提供与按压装置的压力有关基底的基本上平坦的外伸；和用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。该光刻投影装置的特征在于：所述突起在基底保持器离开边缘的区域内分布，以为所述多个突起的每个突起提供基本相等的支撑区域，所述支撑区域由与突起相关联的Voronoi图案分布限定。根据本发明的光刻装置提供具有减小的重叠和聚焦误差的基底保持器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 由此 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：—用于提供辐射投射光束的辐射系统；—用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图案对投射光束进行构图；—包括多个突起的基底保持器，多个突起的末端限定了用于支撑基本上平坦的基底的基本上平坦的支撑平面，所述基底保持器设有提供压力的装置，用于将基底压靠在突起的末端；基底保持器的边缘区域中的突起安排成提供与按压装置的压力有关的基底的基本上平坦的外伸；和—用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统，其特征在于：—所述突起在基底保持器离开边缘的区域内分布，以便为所述多个突起的每个突起提供基本相等的支撑区域，所述支撑区域由与突起相关联的Voronoi图分布限定。
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