[发明专利]一种脊形圆波导器件的制作方法无效

专利信息
申请号: 200410061051.1 申请日: 2004-11-08
公开(公告)号: CN1603869A 公开(公告)日: 2005-04-06
发明(设计)人: 周立兵;罗风光;曹明翠;袁菁 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G02B6/10 分类号: G02B6/10;G03F7/20
代理公司: 华中科技大学专利中心 代理人: 方放
地址: 430074湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种脊形圆波导器件的制作方法,属于光通信平面波导器件领域,其目的是实现波导掩埋深度和波导线宽无关、且偏振不敏感的平面光波导制作。本发明步骤为:对制作波导的基底材料整片进行离子交换,然后进行光刻和等离子体刻蚀,使设计的平面波导器件结构复制到基底材料上并形成脊形结构,再进行第二次离子交换,形成掩埋波导,且波导截面呈圆形。本发明不需要薄膜沉积,成本更低,工艺更简单;波导为同质材料,模场呈圆形轴对称结构,光学传输性能表现为偏振不敏感特性,解决了波导掩埋深度随波导线宽的改变而变化的问题,特别适用于制作阵列波导光栅(AWG)型器件,多模干涉(MMI)型器件等波导线宽不规则的器件。
搜索关键词: 一种 脊形圆 波导 器件 制作方法
【主权项】:
1.一种脊形圆波导器件的制作方法,顺序包括以下步骤:1)将洗净的基底玻璃材料整片放入离子交换对的含Ag+,K+,Tl+、同时融盐的融化温度小于玻璃的Tg点的融盐熔液中,进行第一次离子交换,离子交换的温度低于玻璃的玻璃化转变温度,最终整个基片形成平板波导结构;2)对离子交换后的基底玻璃匀胶光刻,光刻掩膜版图形为所需的波导器件结构,对光刻显影后的基底玻璃进行等离子体干法刻蚀,得到脊形台阶结构;3)把刻蚀并去胶后的基底玻璃放入熔融的含Na+、同时融盐的融化温度小于玻璃的Tg点的融盐熔液中进行第二次离子交换,离子交换的温度低于玻璃的玻璃化转变温度,最终得到模场同轴对称的脊形圆波导结构且和器件平板波导的掩埋深度相同。
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