[发明专利]清洗方法、半导体器件的制造方法及显示器件的制造方法无效
| 申请号： | 200410061563.8 | 申请日： | 2001-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN1623689A | 公开（公告）日： | 2005-06-08 |
| 发明（设计）人： | 速水直哉 | 申请（专利权）人： | 东芝株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张政权 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种将加有超声波的清洗液供给被清洗物，来清洗所述被清洗物的超声波清洗方法，对所述清洗液施加所述超声波，以规定间隔反复进行施加、停止的方式进行。用该超声波清洗方法进行清洗时，可以既不降低去除附着在被清洗物表面的微粒的效率，又不损伤被清洗物。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 半导体器件 制造 显示 器件 | ||
【主权项】：
1.一种超声波清洗方法，其特征在于，具有：照射第一超声波来清洗被清洗物的第一工序；以及照射第二超声波来清洗所述被清洗物的第二工序，所述第一工序及第二工序连续反复进行，边以规定间隔依次改变所述第一超声波及所述第二超声波，边照射被清洗物进行清洗，所述第一超声波与所述第二超声波的波长不相同，以抵消规定点的共振。
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