[发明专利]氨的精制方法与精制装置有效
申请号: | 200410061762.9 | 申请日: | 2004-06-30 |
公开(公告)号: | CN1623900A | 公开(公告)日: | 2005-06-08 |
发明(设计)人: | 米田隆;阪口正美;池田晶义;安部敏行 | 申请(专利权)人: | 大阳东洋酸素株式会社 |
主分类号: | C01C1/02 | 分类号: | C01C1/02;C01C1/10 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王健 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了能够高效地除去原料氨中含的多种非金属杂质且可简化连续精制工序的氨气精制方法及精制装置。本发明的氨气精制装置具有导入含有水分和沸点比氨低的低沸点杂质气体的粗氨气体后利用冷却作用将氨气液化的热交换器构成的蒸馏部3,设于前述蒸馏部3的将前述低沸点杂质气体直接进行气体状态排气的排气通路,使从前述蒸馏部3排出的液化氨气化的气化装置,吸附水分的水分吸附部22、24,分离氧的催化剂部23、25,和将前述气化装置气化的氨气导入前述水分吸附部22、24与前述催化剂部23、25的氨气导入通路。 | ||
搜索关键词: | 精制 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.氨气精制方法,其是对含沸点比氨低的低沸点杂质气体的粗氨气体进行精制的方法,特征在于,在热交换器构成的蒸馏部导入前述粗氨气体后,利用前述热交换器的冷却作用将氨气液化,从前述蒸馏部将前述低沸点杂质气体直接进行气体状态的排气,从前述粗氨气体中除去前述低沸点杂质气体。
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