[发明专利]畴壁位移检测系统磁光记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 200410062015.7 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577556A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 三木刚;藤田五郎 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B11/105 | 分类号： | G11B11/105 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;梁永 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种畴壁位移检测(DWDD)系统磁光记录介质将平台3和凹槽4形成为信号记录区。通过在平台3和凹槽4之间的边界壁表面5上照射退火光La改变畴壁位移改进时，通过在沿着边界壁表面5的记录磁道长度方向延伸的部分上形成的退火光扫描位置位移检测摆动部分7检测该退火光的位置。该退火光扫描该摆动部分7，因而产生了对应于摆动部分7周期的周期的振幅从而高灵敏度地检测和监测退火光扫描位置的微小变化。因此，在该DWDD系统磁光记录介质中，可以以高灵敏度检测平台3和凹槽4之间边界壁表面处退火光的扫描位置。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 检测 系统 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种畴壁位移检测系统磁光记录介质，其中在包括平台和凹槽的盘状基板上形成磁光记录布置膜，所述平台和凹槽都形成为信号记录区，基于畴壁位移检测系统记录和再现信号，并且其中在所述平台和所述凹槽之间的边界壁表面形成为变化部分，用于通过用沿着记录磁道长度方向的退火光照射所述平台和所述凹槽之间的边界壁表面改善畴壁位移，该畴壁位移检测系统磁光记录介质包括：在沿着所述边界壁表面的所述记录磁道长度方向的一个部分上形成的在所述记录磁道宽度方向上摆动用于检测退火光扫描位置的位移的摆动部分。
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