[发明专利]彩葵的矮化栽培方法无效
| 申请号： | 200410062738.7 | 申请日： | 2004-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1717976A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 刘公社 | 申请（专利权）人： | 中国科学院植物研究所 |
| 主分类号： | A01G1/00 | 分类号： | A01G1/00;A01G7/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 100093北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩葵的矮化栽培方法，该方法是在常规栽培管理条件下，选择下述处理中的至少一种：1)在播种前用矮化剂浸种；2)在第一对真叶期喷施矮化剂；3)在显蕾期喷施矮化剂；所述矮化剂是浓度为1－200ppm的多效唑溶液或浓度为1000－5000ppm的B9溶液。使用本方法栽培彩葵可以使彩葵的株高明显降低，也为无花粉彩葵杂交种提供了一个控制株高的实用方法，具有一定的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 矮化 栽培 方法 | ||
【主权项】：
1、一种彩葵的矮化栽培方法，是在常规栽培管理条件下，选择下述处理中的至少一种：1)在播种前用矮化剂浸种；2)在第一对真叶期喷施矮化剂；3)在显蕾期喷施矮化剂；所述矮化剂是浓度为1-200ppm的多效唑溶液或浓度为1000-5000ppm的B9溶液。
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