[发明专利]抛光组合物无效
| 申请号： | 200410062868.0 | 申请日： | 2004-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN1576339A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 神谷知秀;横道典孝;大胁寿树 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民;董红曼 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种抛光组合物，它更适合用于磁盘基片的抛光。抛光组合物含有：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。微纹消除剂是一种还原剂，它含以下组中选出的至少一种：膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、硫酸铵、硫酸钠、对苯二酚、焦酚、异抗坏血酸、异抗坏血酸钠、L－抗坏血酸、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵、草酸、草酸铵、碘酸铵以及五倍子酸。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抛光组合物，其特征在于，包含：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。
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