[发明专利]光刻投影装置和器件制造方法

摘要

光刻投影装置包括曝光系统和测量系统。曝光系统将带图案的光束投射到第一基底的目标部分上，而测量系统将测量光束投射到第二基底的目标部分上。该装置的一个可移动部分的移动例如由于空气的流动而产生对该装置中另一个可移动部分的位置的干扰。这一误差可以通过计算补偿信号进行补偿，所述补偿信号是一个或两个可移动部分的状态的函数。

主权项

1.一种包括曝光系统和测量系统的光刻投影装置，该曝光系统包括：-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；-用于保持第一基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到第一基底的目标部分上的投影系统，该投影系统包括用于控制投射到第一基底的目标部分上的投影控制装置；以及-用于移动曝光系统的可移动部分使带图案的光束可相对于第一基底移动的第一控制装置，测量系统包括：-用于将测量光束投射到第二基底的目标部分上，并测量第二基底的目标部分的表面性质的光学测量设备；-用于保持第二基底的第二基底台；以及-用于移动测量系统的可移动部分使测量光束可相对于第二基底移动的第二控制装置，其特征在于该装置进一步包括：-用于确定校正信号的校正确定装置，该校正信号用于至少部分地校正曝光系统和测量系统之一的可移动部分的位置误差，该误差由曝光系统和测量系统中另一个的可移动部分的移动而产生，以及-用于将校正信号馈入第一或第二控制装置的馈送装置，该校正信号用于至少部分地校正曝光系统和测量系统之一的位置。