[发明专利]用于对准或重叠的标记结构，限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置

摘要

在光刻投影中用于将标记结构成像在基底上的掩模图案，该标记结构在使用中布置成用于确定光学对准或重叠，该掩模图案包括组成部分以限定标记结构，该组成部分被分成多个分段元件(EL；ML)，每个分段元件大体上具有器件特征的尺寸，该掩模图案包括用于每个分段元件(EL；ML)的部段形状，其特征在于用于标记结构的掩模图案包括至少一个位于部段形状的临界部分的辅助特征(EL_sub)，用于平衡在光刻投影中在临界部分处产生的平衡光学像差或者光学限制，该至少一个辅助特征(EL_sub)具有大体上小于光刻投影的分辨率的尺寸。

主权项

1.在光刻投影中用于将标记结构成像在基底上的掩模图案，该标记结构在使用中布置成用于确定光学对准或重叠，该掩模图案包括组成部分以限定标记结构，该组成部分被分成多个分段元件(EL；ML)，每个分段元件大体上具有器件特征的尺寸，该掩模图案包括给每个分段元件(EL；ML)的部段形状，其特征在于将组成部分分成分段元件(EL；ML)是沿垂直于光刻投影的扫描方向(S)的方向。