[发明专利]光记录介质及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200410063579.2 申请日: 2004-07-12
公开(公告)号: CN1577554A 公开(公告)日: 2005-02-09
发明(设计)人: 八代彻;见上竜雄;中村有希 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/26
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉;贾静环
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种光记录介质含有第一信息衬底以及第二信息衬底。该第一信息衬底是从下述这两个衬底中选择出来的,即一个是包括有第一衬底和其含有反射膜并且具有信息凹点的只读第一记录层、一个是包含有按此顺序所排列的其具有凹槽的第一衬底,含有有机染料的第一记录层,以及第一反射层。该第二信息衬底包括按此顺序所排列的具有一凹槽的第二衬底,第二反射层,含有有机染料的第二记录层,以及一无机保护层。第一和第二衬底通过插入一个光学透明的有机夹层而粘合,以便使第一和第二衬底每面向外,并且通过光从第一衬底表面照射来对记录在第一和第二衬底上的信息进行再现。
搜索关键词: 记录 介质 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种光记录介质,包含:第一信息衬底;第一信息衬底上的光学透明有机夹层;和在光学透明有机夹层上的第二信息衬底,其中将光记录介质配置成通过将光从第一衬底表面施加到光记录介质上来再现记录在第一记录层和第二记录层的至少一层上的信息,其中第一信息衬底选自:包含第一衬底和只读第一记录层的衬底,第一记录层包含反射膜并具有信息凹坑槽,和包含按顺序排列的具有引导凹槽的第一衬底、含有机染料的第一记录层和第一反射层的衬底,和其中第二信息衬底包括按顺序排列的具有引导凹槽的第二衬底、至少第二反射层、含有有机染料的第二记录层和无机保护层,该无机保护层具有的厚度为80-180nm。
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