[发明专利]层图案制造方法、配线制造方法、电子设备的制造方法有效
| 申请号： | 200410063861.0 | 申请日： | 2004-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN1578598A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 酒井宽文;樱田和昭 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/14 | 分类号： | H05K3/14;H05K3/46;B05C5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种层图案制造方法，包括通过形成位于基板上的第1层和位于所述第1层上的第2层，在所述基板上形成由所述第1层和所述第2层划出的区域的步骤(a)、和从喷出装置的喷出部向所述区域喷出液状的材料的步骤(b)。此外，所述第1层的相对于所述液状的材料的疏液性低于所述第2层的相对于所述材料的疏液性。由此，可以精度优良地稳定地形成微细化的层图案。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 制造 方法 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种层图案制造方法，其特征是，包括：通过形成位于基板上的第1层和位于所述第1层上的第2层，在所述基板上形成由所述第1层和所述第2层划出的区域的步骤(a)、和从喷出装置的喷出部向所述区域喷出液状的材料的步骤(b)，所述第1层相对于所述液状的材料的疏液性低于所述第2层相对于所述材料的疏液性。
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