[发明专利]校准光刻装置的方法,对准方法，计算机程序，光刻装置和器件制造方法

摘要

一种补偿前到后侧对准光学装置的变形的方法，其中计算基底标记的估计位置和基底标记的实际位置之间的位移矢量。还通过将参考基底移动一段固定量计算出光学校正阵列，并比较参考基底后侧上点的像的移动距离和基底前侧上相应点的移动距离。然后位移矢量和光学校正阵列用于准确地计算另一基底的位置。前到后侧对准光学装置可以足够地大以同时由每个分支机构投影多个标记。参考标记插入在前到后侧对准光学装置的物窗中，由前到后侧对准光学装置的单个分支机构投影的参考标记和基底标记的像的相对变化可以表示前到后侧对准光学装置的光学特性的变化。

主权项

1.一种利用参考基底前侧和后侧上的标记校准包括前到后侧对准光学装置的光刻装置的方法，该方法包括：-计算通过前到后侧对准光学装置观察到的所述参考基底后侧上的标记的位置和所述标记的实际位置之间的位移矢量；-相对所述前到后侧对准光学装置移动所述参考基底一小段距离，并比较所述参考基底后侧上点的像移动的距离和所述参考基底前侧上的点移动的距离以产生第一校正矢量；和-对于在所述参考基底上的一不同点重复移动所述参考基底的上述步骤以产生第二校正矢量；因而位移矢量和光学校正矢量为校准信息。