[发明专利]磁头污点检测方法和装置有效
| 申请号： | 200410063945.4 | 申请日： | 2004-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN1573940A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 高贯一明;金子正明;原川修 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/455 | 分类号： | G11B5/455 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种检测磁头的污点的方法和装置，其中通过测量在集成有磁头主体部分的滑块的垫片和防护装置之间的电阻值，使得有可能在磁头装配之前检测污点产生，并且另外，吞吐量也会增加。检测磁头污点的方法包括：测量在具有集成磁头主体部分的滑块的垫片之间的，或者在垫片和与磁头主体部分的防护装置相连的导体部分之间的电阻值，以由此检测污点产生。 | ||
| 搜索关键词： | 磁头 污点 检测 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种检测磁头污点的方法，包括：测量在具有集成磁头主体部分的滑块的垫片之间的电阻值，或者在垫片和与磁头主体部分的防护装置相连的导体部分之间的电阻值，以由此检测污点产生。
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