[发明专利]图案形成法和光学元件无效
| 申请号： | 200410064064.4 | 申请日： | 2004-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN1598695A | 公开（公告）日： | 2005-03-23 |
| 发明（设计）人： | 花村政晓;白木真司;熊野厚司 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;G02B6/00;G02B3/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭煜;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可以容易地形成由2种折射率不同的区域组成的图案的方法。本发明提供一种形成折射率不同的2种区域的方法，其中：使用感辐射性树脂组合物形成具有疏水·疏油性部位的图案，并在其上涂布使用对疏水·疏油性部位润湿性小的溶剂的高折射率树脂溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 光学 元件 | ||
【主权项】：
1.一种形成具有折射率不同的2种区域的图案的方法，其特征在于：(1)在基板上涂布感辐射性树脂组合物，(2)用射线使涂膜的一部分曝光形成曝光涂膜，(3)使曝光涂膜显影，形成包括第1涂膜部位和非涂膜部位的图案，(4)将溶解在对第1涂膜部位润湿性小的溶剂中的折射率高于该第1涂膜部位折射率的树脂的树脂溶液涂布到上述图案上，将非涂膜部位转换为第2涂膜部位，由此，形成第1涂膜部位与第2涂膜部位2种折射率不同的区域。
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