[发明专利]整流二极管、专用于制造整流二极管的芯片以及制造方法有效

专利信息
申请号: 200410065392.6 申请日: 2004-11-30
公开(公告)号: CN1783516A 公开(公告)日: 2006-06-07
发明(设计)人: 王日新 申请(专利权)人: 安徽省祁门县黄山电器有限责任公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L21/329
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 代理人: 徐晖
地址: 245600*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了整流二极管、专用于制造整流二极管的芯片及其制造方法,整流二极管由外壳、芯片、引出线几部分组成,芯片包括长基区N、扩磷区N+,浓硼扩散区P+,槽型钝化台面,芯片中间为长基区N,阴极K在磷扩散区N+上,阳极A在浓硼扩散区P+上,上部是磷扩散区N+,下部是浓硼扩散区P+,芯片的周边设有隔离墙,在隔离墙上设有垂直穿通的激光孔,激光孔的直径小于200μm,激光孔的间距40-400μm,槽型钝化台面在隔离墙与阴极K之间。由于采用激光穿孔隔离墙扩散工艺制造整流二极管芯片,耐压提高,性能稳定。也就是说本发明不但克服了原来单面刻槽方法制造的芯片的缺点,而且具有原来单面刻槽方法制造的芯片的优点。
搜索关键词: 整流二极管 专用 制造 芯片 以及 方法
【主权项】:
1、一种整流二极管,整流二极管由外壳、芯片、引出线三部分组成,芯片包括长基区N、扩磷区N+,浓硼扩散区P+,槽型钝化台面,芯片中间为长基区N,阴极K在磷扩散区N+上,阳极A在浓硼扩散区P+上,其特征在于:芯片的周边设有隔离墙,在隔离墙平面上设有垂直穿通的激光孔,激光孔的直径小于200μm,激光孔的间距40-400μm,槽型钝化台面在隔离墙与阴极K之间。
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