[发明专利]中温印染的有机硅消泡剂及其制备方法有效
申请号: | 200410066187.1 | 申请日: | 2004-12-10 |
公开(公告)号: | CN1641097A | 公开(公告)日: | 2005-07-20 |
发明(设计)人: | 曹治平;吴飞;丁曦 | 申请(专利权)人: | 曹治平 |
主分类号: | D06P1/44 | 分类号: | D06P1/44;B01D19/04 |
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地址: | 210028江苏省南京市中央*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种中温印染用的有机硅消泡剂及其制备方法,包括消泡活性物、乳化剂、增稠剂和去离子水;消泡活性物包括聚有机硅氧烷、疏水粒子、偶联剂以及催化剂:其中聚有机硅氧烷结构通式为RaSiO (4-a)/2,其中R为取代或非取代的一价烃基,疏水粒子为气相法的白炭黑,经硅油处理形成均相的催化剂是NaOH和Me4NOH的混合物,其用量为0.5~8%。本发明主要是借助于一些高效有机硅乳化剂来乳化活性物,从而兼顾了产品的稳定性和消抑泡性能。在染色实验和现场应用中都取得较满意的结果。 | ||
搜索关键词: | 印染 有机硅 消泡剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、中温印染的有机硅消泡剂,包括消泡活性物、乳化剂、增稠剂和分散介质;(1)所述的消泡活性物包括聚有机硅氧烷、疏水粒子、偶联剂以及催化剂:a、所述的聚有机硅氧烷结构通式为RaSiO(4-a)/2,其中R为取代或非取代的一价烃基,碳原子数为1~20个;a的取值为1.9~2.2;b、疏水粒子为气相法的白炭黑、氧化镁、氧化钛、三氧化二铝、M/Q树脂、有机硅树脂或金属皂,其比表面积不小于50m2/g,用量为5~10%;c、经硅油处理形成均相的催化剂是NaOH和Me4NOH的混合物,其用量为0.5~8%;(2)乳化剂为非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂或两性表面活性剂;(3)分散介质为去离子水。
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