[发明专利]一种金属氧化物、硫化物纳米线阵列的制备方法无效
| 申请号： | 200410066450.7 | 申请日： | 2004-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN1608998A | 公开（公告）日： | 2005-04-27 |
| 发明（设计）人： | 田博之;刘晓英;李彦光;李想;屠波;赵东元 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | C01G1/02 | 分类号： | C01G1/02;C01G1/12;C30B29/62 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人： | 陆飞;沈云 |
| 地址： | 20043*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明为一种通过无机介孔材料模板法反相制备金属氧化物、硫化物纳米线阵列的方法。其制备过程是：首先向模板中加入金属盐或硫源，与挥发性的有机溶剂均匀混合，然后在空气中放置，使有机溶剂挥发。重复上述步骤，进行多次填充。之后直接烧结使之分解、晶化，产生相应的氧化物和硫化物；或者直接向多次填充后的复合物中加入碱溶液，使孔道内的离子生成氧化物和氢氧化物沉淀。最后除去无机模板，得到所要的高比表面积的、有序的金属氧化物或硫化物纳米线阵列。上述方法得到的材料忠实地复制了无机模板原有的介观结构，不仅具有较高的比表面积和单一的介孔分布，而且高度晶化，具有良好的光学、电学、磁学等特性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 氧化物 硫化物 纳米 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属氧化物和硫化物纳米线阵列的制备方法，其特征在于首先向作为模板的无机介孔材料中加入金属盐和/或硫源，并与挥发性的有机溶剂均匀混合，在空气中放置，使有机溶剂挥发，重复上述步骤，进行多次填充，然后经过直接烧结使之分解晶化，产生相应的金属氧化物或硫化物，或者直接向多次填充后的复合物中加入碱溶液，使孔道内的离子生成氧化物和氢氧化物沉淀，继续搅拌后离心分离；最后溶解除去无机模板，即得到所要的金属氧化物或硫化物纳米线阵列。
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