[发明专利]用于多透射率光掩模结构的镶嵌的方法和所得结构有效

专利信息
申请号: 200410068071.1 申请日: 2004-11-08
公开(公告)号: CN1773373A 公开(公告)日: 2006-05-17
发明(设计)人: 洪齐元;张斌 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/08 分类号: G03F1/08;H01L21/00
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 陈红
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光罩器件。该光罩器件具有石英衬底,所述石英衬底包含表面区域。在所述表面区域的第一部分上形成第一区域,所述第一区域包含多个也被称为二元掩模图案的不透明掩模图案。在所述表面区域的第二部分上的第二区域,所述第二区域包含多个第一衰减相移掩模图案。在所述表面区域的第三部分上的第三区域,所述第三区域包含多个第二衰减相移掩模图案。因此,该光罩器件具有至少三个对应不同光学特性的不同区域。
搜索关键词: 用于 透射率 光掩模 结构 镶嵌 方法 所得
【主权项】:
1.一种光罩器件,包括:一个石英衬底,所述石英衬底包含表面区域;一个第一区域,位于所述表面区域的第一部分上,包含多个二元掩模图案;一个第二区域,位于所述表面区域的第二部分上,包含多个第一相移掩模图案;和一个第三区域,位于所述表面区域的第三部分上,包含多个第二相移掩模图案。
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