[发明专利]用于多透射率光掩模结构的镶嵌的方法和所得结构有效
申请号: | 200410068071.1 | 申请日: | 2004-11-08 |
公开(公告)号: | CN1773373A | 公开(公告)日: | 2006-05-17 |
发明(设计)人: | 洪齐元;张斌 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;H01L21/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 陈红 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种光罩器件。该光罩器件具有石英衬底,所述石英衬底包含表面区域。在所述表面区域的第一部分上形成第一区域,所述第一区域包含多个也被称为二元掩模图案的不透明掩模图案。在所述表面区域的第二部分上的第二区域,所述第二区域包含多个第一衰减相移掩模图案。在所述表面区域的第三部分上的第三区域,所述第三区域包含多个第二衰减相移掩模图案。因此,该光罩器件具有至少三个对应不同光学特性的不同区域。 | ||
搜索关键词: | 用于 透射率 光掩模 结构 镶嵌 方法 所得 | ||
【主权项】:
1.一种光罩器件,包括:一个石英衬底,所述石英衬底包含表面区域;一个第一区域,位于所述表面区域的第一部分上,包含多个二元掩模图案;一个第二区域,位于所述表面区域的第二部分上,包含多个第一相移掩模图案;和一个第三区域,位于所述表面区域的第三部分上,包含多个第二相移掩模图案。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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