[发明专利]物理气相沉积工艺及其设备有效
| 申请号： | 200410068273.6 | 申请日： | 2004-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1740381A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 陈泰原;梅伦 | 申请（专利权）人： | 茂德科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种物理气相沉积设备，此沉积设备由一反应室与一电磁铁磁控装置所构成，此电磁铁磁控装置配置于反应室的外部上方。其中当于进行物理气相沉积工艺时，临场反转此电磁铁磁控装置的磁极，因此可以解决开口侧壁的不对称沉积的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 工艺 及其 设备 | ||
【主权项】：
1、一种物理气相沉积设备，包括：一反应室；以及一电磁铁磁控装置，配置于该反应室的外部上方，其中当于进行一物理气相沉积工艺时，临场反转该电磁铁磁控装置的磁极。
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