[发明专利]光刻构图装置的保险机构有效
| 申请号： | 200410068411.0 | 申请日： | 2004-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1577108A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | B·L·W·M·范德文;G·－J·希伦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本申请公开了设置构图装置保险机构的光刻装置。在一个实施例中，该装置包括用以提供辐射光束的照明系统，用以支撑赋予该辐射光束以带图案的截面的构图装置的支撑结构，用以保持具有一些靶部的基底的基底支架，用以将图案化的光束投射到该基底靶部上的投射系统，用以相对支撑结构连接该构图装置的连接器；和为了在该连接器出现故障的情况下减小该构图装置失控位移而设置的保险机构。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 构图 装置 保险机构 | ||
【主权项】：
1.光刻装置，包括：照明系统，用以提供辐射光束；支撑结构，用以支撑给所述辐射光束的截面赋予图案的构图装置；基底支架，用以保持具有一些靶部的基底；投射系统，用以将所述图案化的光束投射到所述基底的靶部上；连接器，用以相对所述支撑结构连接所述构图装置；和保险机构，用于在所述连接器出现故障的情况下限制所述构图装置的位移。
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