[发明专利]光致抗蚀剂聚合物及包含其的光致抗蚀剂组合物无效
申请号: | 200410069633.4 | 申请日: | 2004-07-15 |
公开(公告)号: | CN1605938A | 公开(公告)日: | 2005-04-13 |
发明(设计)人: | 李根守 | 申请(专利权)人: | 海力士半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 封新琴;巫肖南 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及光致抗蚀剂聚合物及光致抗蚀剂组合物。本发明公开的光致抗蚀剂聚合物及含有它们的光致抗蚀剂组合物具有优异的透射比、耐蚀刻性、耐热性和粘附性、低光线吸收度及对在193nm及157nm波长下的显影溶液具有高度亲和性,因而具有改良的LER(线边缘粗糙度)。 | ||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 聚合物 包含 组合 | ||
【主权项】:
1.一种用于光致抗蚀剂单体的式1所示的化合物:[式1]其中R为CH2、CHCH2或C(CH2)2;R′及R″独立地为H或CH3;R1、R2、R3、R4及R5独立地为H、F、C1-C20烷基、C1-C20全氟烷基、包括醚基(-O-)的C1-C20烷基、包括醚基(-O-)的C1-C20全氟烷基、部分被F取代的C1-C20烷基、或包括醚基且部分被F取代的C1-C20烷基;及m为0至3范围内的整数。
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