[发明专利]平面光波导装置的制造方法无效
| 申请号： | 200410070664.1 | 申请日： | 2004-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN1727927A | 公开（公告）日： | 2006-02-01 |
| 发明（设计）人： | 王敏琦;吴仲仁;张仲宏;周孟彦;庄进昌;黄信玮;吕淑婉;安治民;吴仲濠 | 申请（专利权）人： | 长兴化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方;刘国伟 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是提供一种高分子平面光波导装置的制备方法，该方法包含如下步骤：提供一基板；于该基板上涂布包覆材料，以形成一包覆层，并将该包覆层固化；于该包覆层上涂布核心材料，以形成一核心层；于该核心层上形成一罩幕层，并以偏振光照射该罩幕层至少一次，使该核心层上对应于该罩幕层开口处进行一次或多次曝光，以产生方向性的链接，形成光路；最后，移除该罩幕层，并将其余核心层和该光路固化。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 波导 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造平面光波导装置的方法，其包括下列步骤：提供一基板10；于该基板上涂布包覆层材料，以形成一包覆层20，并将该包覆层20固化；于该包覆层20上涂布核心层材料，形成一核心层30；于该核心层30上形成一具有定义所要线路形状的开口的罩幕层40，自罩幕层40的上方照射至少一次偏振光50，以使该核心层30上对应于该罩幕层40开口的部位进行一次或多次曝光，产生方向性的键结，形成光路300；移除该罩幕层40；以及将其余核心层30和该光路300固化。
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