[发明专利]一种化学储槽的线上监控系统有效
| 申请号： | 200410070781.8 | 申请日： | 2004-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN1728333A | 公开（公告）日： | 2006-02-01 |
| 发明（设计）人： | 林鸿祥;林昆阳;洪舜立;李玉郎;沈育仁 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董惠石 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种化学储槽的线上监控系统，包含有一槽体，其由一导电壳体以及绝缘内衬所构成，用以承装化学液；一侦测电极，浸入该槽体所承装的该化学液中；以及一量测装置，电连接该侦测电极，其中该侦测量测装置并且电连接该导电壳体。当该绝缘内衬被蚀穿，造成该槽体所承装的该化学液接触该导电壳体时，该侦测量测装置即可接收到一相对信号。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 线上 监控 系统 | ||
【主权项】：
1.一种储放腐蚀性化学液储槽的腐蚀监测系统，其特征在于，包含有：一槽体，其由一导电壳体以及绝缘内衬所构成，用以承装腐蚀性化学液；一侦测电极，浸入该槽体所承装的该腐蚀性化学液中；以及一量测装置，电连接该侦测电极，其中该侦测量测装置并且电连接该导电壳体，而当该绝缘内衬被蚀穿，造成该槽体所承装的该腐蚀性化学液接触该导电壳体时，该侦测量测装置即可接收到一相对信号。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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