[发明专利]发光装置及其形成方法无效
| 申请号： | 200410071482.6 | 申请日： | 2004-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN1575064A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 内海彻哉;有马正彰;原田昌幸;舟田真理 | 申请（专利权）人： | 株式会社丰田自动织机 |
| 主分类号： | H05B33/12 | 分类号： | H05B33/12;H05B33/22;H05B33/02;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹光新;张志醒 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在发光装置中，在其上形成发光器件的衬底的面是具有多个粗糙点的非平坦表面。该中相邻的粗糙点的平均间隔Sm或者粗糙点的相邻凸起的峰的平均间隔S不小于由发光层产生的光的最长波长的三倍，并且不大于该最长波长的两百倍。该非平坦表面的算术平均斜率Δa是在4°和30°之间的范围内，包括4°和30°。因此，与没有非平坦表面的发光装置相比，该装置基本上从光提取侧发出更大数量的光，并且具有较小的亮度不均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，包括衬底和设置在衬底上的发光器件，该装置的特征在于：该器件包括位于一对电极之间的发光层，在其上形成发光器件的衬底的面是具有多个粗糙点的非平坦表面，相邻粗糙点的平均间隔Sm或者粗糙点的相邻凸起的峰的平均间隔S不小于由发光层产生的光的最长波长的三倍，并且不大于该最长波长的两百倍，其中要满足下列要求(i)-(vi)中的至少一个要求：(i)该非平坦表面的算术平均斜率Δa是在4°和30°之间的范围内，包括4°和30°；(ii)该非平坦表面的均方根斜率Δq是在4°和35°之间的范围内；(iii)该非平坦表面的算术平均粗糙度Ra与粗糙点的平均间隔Sm的比值Ra/Sm是在0.008和0.09之间的范围内，包括0.008和0.09；(iv)算术平均粗糙度Ra与峰的平均间隔S的比值Ra/S是在0.009和0.10之间的范围内，包括0.009和0.10；(v)该非平坦表面的不规则性的十点高度Rz与粗糙点的平均间隔Sm的比值Rz/Sm是在0.05和0.22之间的范围内，包括0.05和0.22；和(vi)不规则性的十点高度Rz与峰的平均间隔S的比值Rz/S是在0.05和0.25之间的范围内，包括0.05和0.25。
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