[发明专利]磁记录介质用衬底及其制造方法和磁记录介质无效
| 申请号： | 200410071638.0 | 申请日： | 2004-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN1577510A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 石井政利;津森俊宏;大桥健 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/62 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;关兆辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁记录介质用衬底，优选提供一种具有不大于65mm直径的小直径衬底，其在物理特性和成本方面都具有优势。更具体地，本发明提供一种使用了之前经历过至少一次加热和/或腐蚀的单晶硅晶片的磁记录介质用衬底。此外，本发明提供一种制造磁记录介质用衬底的方法，该方法包括：取芯步骤，用于从经历过至少一次加热和/或腐蚀的直径至少为150mm和至多为300mm的单晶硅晶片上裁剪得到多个外径不大于65mm的环形衬底。所述方法优选地进一步包括倒棱步骤，用于将所述环形衬底内外圆周面上的棱除去；以及圆周面抛光步骤，用于抛光经过倒棱的内外圆周面。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 衬底 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质用衬底，其包括之前经历过至少一次加热和/或腐蚀的单晶硅晶片。
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