[发明专利]用于制造磁记录介质衬底的方法无效
| 申请号： | 200410071639.5 | 申请日： | 2004-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN1577511A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 石井政利;津森俊宏;大桥健 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;关兆辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种用于制造磁记录介质的优选为小直径衬底的高效方法。更具体地说，提供了一种用于制造磁记录介质的衬底的方法，包括：取芯步骤，以从其直径至少为150mm至多为300mm的单晶硅晶片获得其外径至多为65mm的多个环形衬底，其中，内径和外径的取芯通过不同的方式来进行。在所述取芯步骤中，所述的内径取芯是通过水注切割或激光切割来进行的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 记录 介质 衬底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造磁记录介质的衬底的方法，该方法包括：取芯步骤，以从其直径至少为150mm至多为300mm的单晶硅晶片获得其外径至多为65mm的多个环形衬底，其中，内径和外径的取芯通过不同的方式来进行。
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