[发明专利]制造磁记录介质衬底的方法无效
| 申请号： | 200410071640.8 | 申请日： | 2004-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN1577512A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 石井政利;津森俊宏;大桥健 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;关兆辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于改善取芯步骤产率的方法。更具体地说，本发明提供了一种用于制造用作磁记录介质衬底的衬底的方法，其包括：取芯步骤，以从具有至少150mm和至多300mm直径的单晶硅晶片获得具有至多55mm直径的多个环形衬底，其中，取芯的执行使得不包括多个衬底的残余晶片保留在一片内。在所述取芯步骤中，优选使用激光切割或水喷射切割来执行取芯，使得所述残余晶片的所述表面的所述最小宽度是所述晶片厚度的1.5至2.5倍。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 记录 介质 衬底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造磁记录介质的衬底的方法，该方法包括：取芯步骤，以从具有至少150mm和至多300mm直径的单晶硅晶片获得具有至多55mm外径的多个环形衬底，其中，取芯的执行使得不包括被取出的多个衬底的残余晶片保留在一片内。
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