[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200410074855.5 | 申请日： | 2004-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1591197A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | E·R·鲁普斯特拉;M·M·T·M·迪里奇斯;J·C·M·贾斯佩;H·J·M·迈杰;U·米坎;J·C·H·穆肯斯;M·里普森;T·尤特迪克;J·J·M·巴塞曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开一种使用浸液的光刻投影装置，所述浸液位于该投影系统的最后元件和基底W之间。公开多种用于保护该投影系统、基底台和液体保持系统的部件的方法。这些方法包括在该投影系统的最后元件(20)上设置保护层，以及在该部件的上游设置牺牲保护体。还公开了由CaF2制成的由两个部件构成的最后光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻投影装置，布置成使用投影系统将图案从构图装置投影到基底上，并且具有用浸液至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，其中，所述最后元件在接触所述浸液的表面上具有一基本上不溶于所述浸液的保护层。
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