[发明专利]导电膜图案的形成方法、电光学装置和电子仪器有效
| 申请号： | 200410074938.4 | 申请日： | 2004-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN1592528A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | 丰田直之 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/26 | 分类号： | H05B33/26;H05B33/10;H05B33/12;H01L21/285;H01L21/28;H01L21/3205 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种不受基体材料的材质左右、能将基体材料上的导电性薄膜很好地改质，形成导电膜图案的形成方法。对具有含导电性材料的导电性层(3)，和含有将光能变换成热能的光热转换材料的光热转换层(2)的基体材料(1)照射激光光线，用所述光热转换材料烧成至少一部分所述导电性层(3)。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 图案 形成 方法 光学 装置 电子仪器 | ||
【主权项】：
1.一种导电膜图案的形成方法，其特征在于，其中具有设置含导电性材料的导电性层，对含有将光能变换成热能的光热转换材料的基体材料照射光，用所述光热转换材料烧成至少一部分所述导电性层的工序。
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