[发明专利]无机取向膜的形成方法、无机取向膜、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器有效
| 申请号： | 200410075178.9 | 申请日： | 2004-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN1591136A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | 太田英伸;远藤幸弘;岩本修 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/133;G03B21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种无机取向膜、具有这种无机取向膜的电子设备用基板、液晶面板和电子仪器、以及这种无机取向膜的形成方法，本发明的无机取向膜的形成方法，是在基材上形成无机取向膜的方法，其特征在于，包括：第一研磨工序，对基材的形成了无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θa的方向照射离子束；成膜工序，在照射了离子束的基材上形成主要由无机材料构成的膜；第二研磨工序，从相对该表面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θb的方向向所述膜的表面照射离子束。根据本发明提供耐光性好、且可产生预倾角的无机取向膜。 | ||
| 搜索关键词： | 无机 取向 形成 方法 电子 备用 液晶面板 电子仪器 | ||
【主权项】：
1.一种无机取向膜的形成方法，是在基材上形成无机取向膜的方法，其特征在于，包括：第一研磨工序，对所述基材的形成无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θa的方向，照射离子束；成膜工序，在照射了所述离子束的所述基材上形成主要由无机材料构成的膜；第二研磨工序，从相对所述基材的形成了所述膜的面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θb的方向，向所述膜的表面照射离子束。
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