[发明专利]制造用于显示器的基板及用该基板制造显示器的方法无效
申请号: | 200410075265.4 | 申请日: | 2004-09-16 |
公开(公告)号: | CN1648747A | 公开(公告)日: | 2005-08-03 |
发明(设计)人: | 出岛芳夫 | 申请(专利权)人: | 富士通显示技术株式会社 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136;H01L21/00;G03F7/20 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 经志强;潘培坤 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种制造用于显示器的基板及用该基板制造显示器的方法,并且旨在提供一种具有高亮度和实现高显示质量的显示器。提供一种制造用于显示器的基板的方法,在该方法中:在一栅极总线上形成一绝缘膜;在该绝缘膜上形成一栅极总线端子;在该栅极总线端子上形成一保护膜;将形成于该保护膜上的一抗蚀层图案化以形成一抗蚀图案;以及通过去除该保护膜和该绝缘膜,利用该抗蚀图案形成露出该栅极总线的第一接触孔,并且通过去除该保护膜,利用该抗蚀图案形成露出该栅极总线端子的第二接触孔,该抗蚀图案形成为在该第二接触孔上方的厚度小于该抗蚀图案在其他区域中的厚度。 | ||
搜索关键词: | 制造 用于 显示器 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造用于显示器的基板的方法,包括如下步骤:在一基本基板上形成一具有一预定形状的第一电极层;在该第一电极层上形成一第一绝缘层;在该第一绝缘层上形成一具有一预定形状的第二电极层;在该第二电极层上形成一第二绝缘层;在该第二绝缘层上形成一抗蚀层;通过将该抗蚀层图案化形成一具有一预定形状的抗蚀图案;通过利用该抗蚀图案去除该第一和第二绝缘层,形成一第一接触区域,在该区域中,该第一电极层被露出;以及通过利用该抗蚀图案去除该第二绝缘层,形成一第二接触区域,在该区域中,该第二电极层被露出,其中形成该抗蚀图案的步骤在该第一接触区域上去除该抗蚀层,并且在该第二接触区域上形成该抗蚀图案,其具有比在其他区域中的抗蚀图案的厚度要小的厚度。
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