[发明专利]蓝宝石衬底减薄工序中的粘片方法有效

专利信息
申请号: 200410077355.7 申请日: 2004-12-08
公开(公告)号: CN1787172A 公开(公告)日: 2006-06-14
发明(设计)人: 许其推;李刚;吴启保 申请(专利权)人: 方大集团股份有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/84;H01L33/00;H01S5/00
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 代理人: 郭伟刚
地址: 518055广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种蓝宝石衬底减薄工序中的粘片方法,所述粘片方法通过在粘片载体上加热熔蜡,然后放置衬底,最后再冷却蜡将衬底固定到粘片载体上,在所述粘片载体和所述衬底之间设置一层使所述衬底的电极与所述粘片载体非直接接触的渗蜡性良好的保护膜。在本发明的粘片方法中,在晶片和粘片载体之间设置一张蜡光纸,能防止晶片上的芯片的电极和发光区与粘片载体直接接触受到损伤、能缩短去蜡时间,提高工作效率;涂蜡时采用特定的蜡分布可以有效避免由于蜡过多或过少发生的掉边和破裂情况;在涂蜡时通过控制温度和压力使蜡呈熔融状态同时还未处于完全液态,有利于蜡的均匀分布,减小偏差。
搜索关键词: 蓝宝石 衬底 工序 中的 方法
【主权项】:
1、一种蓝宝石衬底减薄工序中的粘片方法,所述粘片方法通过在粘片载体上加热熔蜡,然后放置衬底,最后再冷却蜡将衬底固定到粘片载体上,其特征在于,在所述粘片载体和所述衬底之间设置一层分隔所述衬底的电极与所述粘片载体的、渗蜡性良好的保护膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于方大集团股份有限公司,未经方大集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410077355.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top