[发明专利]抛光磨料及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200410077646.6 申请日: 2004-12-16
公开(公告)号: CN1789365A 公开(公告)日: 2006-06-21
发明(设计)人: 陈杰良 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种抛光磨料,其包括纳米碳球、富勒烯粉末、钻石颗粒以及填充材料,该填充材料包括环氧树脂、硬化剂和分散剂等。本发明还提供上述抛光磨料的制造方法。本发明所提供的抛光磨料利用纳米碳球和富勒烯粉末的固态润滑性能,以增加抛光磨料的润滑作用,避免工件抛光时产生划痕。本发明所提供的抛光磨料广泛应用在玻璃制品、光学组件、陶瓷器件以及半导体芯片的抛光制程中,可达到亚纳米级表面粗糙度。
搜索关键词: 抛光 磨料 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种抛光磨料,包括填充材料和混合其中的钻石颗粒,其特征在于:所述抛光磨料还包括混合在所述填充材料中的纳米碳球和富勒烯粉末。
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