[发明专利]一种晶圆氧化膜边缘的去除方法及装置

摘要

一种晶圆氧化膜边缘的去除方法及装置，该方法包括以下几个步骤：将放有晶圆硅片的片架对准转轮，使硅片与转轮接触；转动转轮，带动片架内硅片转动，转轮上布袋浸有的氢氟酸与硅片氧化膜边缘作用；与电机转动的同时，开动位于片架上方的风机，调节箱体内空气中氢氟酸的浓度；取出片架，检测晶圆氧化膜边缘。本发明的优点是：片架位于转轮的上方，转轮上有由布条包覆形成的布袋，片架内的硅片与转轮接触，转轮的下方设有氢氟酸槽，依靠转轮上布袋浸有的氢氟酸，在转轮转动的同时，硅片边缘上的二氧化硅被氢氟酸清洗，整个工艺和设备均简单，成本低，操作方便，效率高，便于推广应用。

主权项

1、一种晶圆氧化膜边缘的去除方法，其特征在于它包括以下几个步骤：(1)、将放有晶圆硅片的片架对准转轮，使硅片与转轮接触；(2)、转动转轮，带动片架内硅片转动，转轮上布袋浸有的氢氟酸与氧化膜边缘作用；(3)、与电机转动的同时，开动位于片架上方的风机，调节箱体内空气中氢氟酸的浓度；(4)、取出片架，检测晶圆氧化膜边缘。