[发明专利]具有增强发光亮度的氮化镓发光二极管结构有效

专利信息
申请号: 200410078343.6 申请日: 2004-09-23
公开(公告)号: CN1753194A 公开(公告)日: 2006-03-29
发明(设计)人: 武良文;涂如钦;游正璋;温子稷;简奉任 申请(专利权)人: 璨圆光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 郝庆芬
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种多重量子井发光二极管,包括:基板、缓冲层、n型氮化镓层、活性发光层、p型被覆层、p型接触层、位障缓冲层、以及透明接触层。此结构最底层为基板,材质为氧化铝单晶。形成于基板上为缓冲层,材质为氮化铝镓铟。而n型氮化镓层形成于缓冲层上。活性发光层形成于n型氮化镓层之上,材质为氮化铟镓。p型被覆层形成于活性发光层之上,材质为镁掺杂氮化铝铟。p型接触层形成于p型被覆层上,材质为氮化镓。形成于p型接触层上为位障缓冲层,材质为氮化镁或氮化镁/氮化铟或氮化镁/氮化铟镓。形成于位障缓冲层上为透明接触层,材质为铟锡氧化物。以及形成于n型氮化镓层上为n型电极层,材质为Ti/Al或Cr/Au。
搜索关键词: 具有 增强 发光 亮度 氮化 发光二极管 结构
【主权项】:
1.一种具有增强发光亮度的氮化镓发光二极管结构,包括:一基板,其材质为氧化铝单晶(Sapphire);一缓冲层(buffer layer),其材质为氮化铝镓铟(Al1-x-yGaxInyN),其中0≤X<1、0≤Y<1,且位于该基板上;一n型氮化镓(GaN)层位于该缓冲层上;一活性发光层,其材质为氮化铟镓(InGaN),位于该n型氮化镓(GaN)层上;一p型被覆层(cladding layer),其材质为镁掺杂(Mg-doped)氮化铝铟(Al1-xInxN),其中0≤X<1,且位于该性发光层上;一p型接触层,其材质为氮化镓(GaN),位于该p型被覆层上;一位障缓冲层,其材质为氮化镁(MgN),位于该p型接触层上;一透明接触层,其材质为铟锡氧化物(ITO),位于该位障缓冲层上;以及一n型电极层,其材质为Ti/Al或Cr/Au,位于该n型氮化镓层上。
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