[发明专利]等离子体产生设备及等离子体处理设备无效
| 申请号： | 200410078689.6 | 申请日： | 2004-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN1652661A | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | 尤里·N·托尔马切夫;马东俊;金大一;瑟吉·Y·纳瓦拉 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H05H1/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种使用多路端部开口的空腔谐振器的微波等离子体产生设备，以及包括该微波等离子体产生设备的等离子体处理设备。该等离子处理设备包括：用于形成处理室的容器，用于支撑材料使其在处理室中被处理的支撑部件，在处理室的上部形成的介电窗，将处理气体注入处理室的气体供应部件，以及通过介电窗供应微波的包含多个谐振器的微波供应部件。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 产生 设备 处理 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理设备，包括：一用于形成一处理室的容器；一用于支撑材料使其在所述处理室中被处理的支撑部件；一在所述处理室的上部形成的介电窗；一将处理气体注入到所述处理室的气体供应部件；以及一包含多个端部开口的空腔谐振器以通过所述介电窗供应微波的微波供应部件。
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