[发明专利]光刻装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 200410078782.7 | 申请日： | 2004-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN1598697A | 公开（公告）日： | 2005-03-23 |
| 发明（设计）人： | J·H·J·穆尔斯;V·Y·巴尼内 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，其包括用于提供辐射投影光束的照射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于在投影光束横截面将图案赋予给投影光束；用于保持基底的基底台；以及用于将带图案的辐射光束投影到基底的目标部分的投影系统，根据本发明该装置还包括用于提供红外辐射到所述光刻装置内的测量区域中的辐射源，以及用于接收经过所述测量区域之后的来自辐射源的红外辐射和用于输出表示在测量区域内部存在气体的信号的检测器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其包括：用于提供辐射投影光束的照射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于在投影光束横截面将图案赋予给投影光束；用于保持基底的基底台；以及用于将带图案的辐射光束投影到基底的目标部分的投影系统，其特征在于所述装置还包括用于提供红外辐射到所述光刻装置内的测量区域中的辐射源，以及用于接收经过所述测量区域之后的来自所述辐射源的红外辐射并用于输出表示在所述测量区域内部出现的气体的存在的信号的检测器。
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