[发明专利]透镜检查装置及其方法有效
| 申请号： | 200410079829.1 | 申请日： | 2001-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1605847A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | 守田昌也;森亮;由比藤文夫 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G01M11/00 | 分类号： | G01M11/00;G01M11/02;G01N21/958 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 刘炳胜 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种透镜检查设备，通过检查透镜来确定所述透镜是否存在缺陷，所述透镜检查设备包括：位于所述透镜轴向并且聚焦于所述透镜的光电成像设备；一个光源设备，置于透镜的与所述光电成像设备相异的一侧，用来发射检查光，使这些检查光从所述光电成像设备的成像区域之外同时照射于所述透镜的整个区域上；一个判定设备，当所述光电成像设备至少从一个区域所得到的信号强度比所述光电成像设备的预定值高，而且所述区域尺寸比预定的大，则判定所述的透镜有缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 检查 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种透镜检查方法，通过检查透镜来确定所述的透镜是否存在缺陷，所述透镜检查法包括以下步骤：将一束检查光从所述透镜一侧轴向地同时照射所述透镜的整个区域，这样通过放在透镜另一侧的光电成像设备拍摄下所述透镜的暗场像，从而探测出检查光在透镜组表面散射的光线；以及当所述光电成像设备至少从一个所述暗场像的区域所得到的信号强度比预定值高，而且所述区域尺寸比预定的大，则判定所述的透镜有缺陷。
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