[发明专利]蚀刻方法、有多个凹部的基板、微透镜基板、透射屏和背面投影仪有效
| 申请号： | 200410081717.X | 申请日： | 2004-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1637438A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 清水信雄;山下秀人;石井诚 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;H01L21/00;G03B21/56;G03B21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了一种蚀刻方法，包括以下步骤：准备基板5；在基板上形成第一和第二膜(61)和(62)，每层膜具有预定的内应力，从而第一和第二膜(61、62)的内应力互相抵消或相减；在第一和第二膜(61、62)中形成多个初始孔(63)，以形成掩模(6)；和通过利用掩模(6)使基板(5)经受蚀刻过程，而在基板(5)上对应多个初始孔(63)的部位形成多个凹部(3)。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 方法 有多个凹部 透镜 透射 背面 投影仪 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻方法，包括以下步骤：准备基板；在基板上形成第一和第二膜，每层膜具有预定的内应力，从而第一和第二膜的内应力互相抵消或相消减；在第一和第二膜中形成多个初始孔，以形成掩模；和通过利用掩模使基板经受蚀刻过程，而在基板上对应多个初始孔的部位形成多个凹部。
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