[发明专利]光致抗蚀剂图案的形成方法以及修整方法无效
| 申请号： | 200410082014.9 | 申请日： | 2004-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN1797198A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 吴得鸿;张圣岳;黄正惠 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种形成光致抗蚀剂图案的方法，此方法是首先在衬底上形成光致抗蚀剂层，之后对光致抗蚀剂层进行一曝光工艺。接着，进行一显影工艺以使光致抗蚀剂层形成一图案化光致抗蚀剂层。然后，对此图案化光致抗蚀剂层进行多重修整步骤，其中此多重修整步骤包括进行至少一次的碱性溶液处理步骤以及/或是至少一次的中性溶液处理步骤，以改善光致抗蚀剂图案的轮廓粗糙度、特征尺寸均匀度以及特征尺寸缩小化。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 图案 形成 方法 以及 修整 | ||
【主权项】：
1.一种形成光致抗蚀剂图案的方法，包括：在一衬底上形成一光致抗蚀剂层；对该光致抗蚀剂层进行一曝光工艺以及一显影工艺，以形成一图案化光致抗蚀剂层；以及对该图案化光致抗蚀剂层进行一多重修整步骤，其中该多重修整步骤包括进行至少一次的碱性溶液处理步骤以及/或是至少一次的中性溶液处理步骤。
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