[发明专利]使用干涉成像光刻法的部件优化有效
| 申请号： | 200410082290.5 | 申请日： | 2004-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1680878A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | R·索查;X·施;D·范登布罗克;J·F·陈 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开构思包括一种方法和程序产品，用于优化在和给定掩模相关的衬底表面中形成的图案照度分布。步骤包括数学上表示给定掩模的可分解部件，产生来自前面步骤的干涉图像表示，改变干涉图像表示以最大化对应于可分解部件的强度以及决定辅助部件尺寸以便不显示强度旁波瓣。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 干涉 成像 光刻 部件 优化 | ||
【主权项】：
1、一种将在与给定掩模相关的衬底表面中形成图案的照度分布的优化方法，包括步骤：(a)以数学方式表示给定图案的可分解部件；(b)由步骤(a)产生干涉图表示；(c)修改干涉图表示以使对应于可分解部件的强度最大化，以及(d)确定辅助部件尺寸使得强度旁波瓣不被印制。
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