[发明专利]排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法有效
| 申请号： | 200410083384.4 | 申请日： | 2004-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1605939A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | 森尾公隆;青木知三郎;加藤哲也;中岛哲矢 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/023 | 分类号： | G03F7/023;G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物，用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂敷面上涂敷正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂敷法，其中含有(A)碱溶性酚醛清漆树脂、(B)分子量在1000以下的含酚性羟基化合物、(C)含萘醌二迭氮基化合物、以及(D)有机溶剂，所述(D)有机溶剂中含有丙二醇单甲醚乙酸酯。其中，(B)含酚性羟基化合物优选为下式(I)所示的化合物。根据本发明可以提供一种适合用于排出喷嘴式涂敷法的正型光致抗蚀剂组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 排出 喷嘴式 涂敷法用正型光致抗蚀剂 组合 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物，是用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂敷面上涂敷正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂敷法的正型光致抗蚀剂组合物，其中含有(A)碱溶性酚醛清漆树脂、(B)分子量在1000以下的含酚性羟基化合物、(C)含萘醌二迭氮基化合物、以及(D)有机溶剂，所述(D)有机溶剂中含有丙二醇单甲醚乙酸酯。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410083384.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
