[发明专利]抛光组合物

摘要

本发明的抛光组合物，用于形成半导体器件的配线的抛光，它含有特定的表面活性剂、氧化硅、选自羧酸及α－氨基酸中的至少一种、防腐蚀剂、氧化剂、水。使用该抛光组合物可抑制凹陷的发生。

主权项

1、一种抛光组合物，它用于形成半导体器件的配线的抛光，该抛光组合物含有表面活性剂、氧化硅、从羧酸及α-氨基酸中选择的至少一种、防腐蚀剂、氧化剂、水，所述表面活性剂含有选自以下述通式(1)～(7)表示的化合物及其盐中的至少一种，在通式(1)中，R¹表示含有8～16个碳原子的烷基，R²表示氢原子、甲基或乙基，R³表示含有1～8个碳原子的亚烷基、-(CH₂CH₂O)_l-、-(CH₂CH(CH₃)O)_m-、或其中至少两种的组合，R³表示-(CH₂CH₂O)_l-或-(CH₂CH(CH₃)O)_m-时，l及m为1～8的整数，R³表示-(CH₂CH₂O)_l-与-(CH₂CH(CH₃)O)_m-的组合时，l与m之和为小于8的整数，X¹表示羧基或磺酸基，R⁴-Z-Y¹-X²                …  (2)R⁴-Z-X²                    …  (3)在通式(2)及(3)中，R⁴表示含有8～16个碳原子的烷基，Z是用下述化学式(i)或(ii)表示的官能团，Y¹表示-(CH₂CH₂O)_n-、-(CH₂CH(CH₃)O)_p-或-(CH₂CH₂O)_n-与-(CH₂CH(CH₃)O)_p-的组合，Y¹表示-(CH₂CH₂O)_n-或-(CH₂CH(CH₃)O)_p-时，n及p为1～6的整数，Y¹表示-(CH₂CH₂O)_n-与-(CH₂CH(CH₃)O)_p-的组合时，n与p之和为6以下的整数，X²表示磷酸根或磺酸基，在通式(4)～(7)中，R⁵及R⁶分别表示氢原子、羟基或含有8～16个碳原子的烷基，Y²及Y³分别表示-(CH₂CH₂O)_q-、-(CH₂CH(CH₃)O)_r-或-(CH₂CH₂O)_q-与-(CH₂CH(CH₃)O)_r-组合，Y²或Y³表示-(CH₂CH₂O)_q-或-(CH₂CH(CH₃)O)_r-时，q及r为1～6的整数，Y²或Y³表示-(CH₂CH₂O)_q-与-(CH₂CH(CH₃)O)_r-的组合时，q与r之和为6以下的整数。