[发明专利]具有防止制程污染的制造系统与处理方法有效

专利信息
申请号: 200410083729.6 申请日: 2004-10-14
公开(公告)号: CN1664985A 公开(公告)日: 2005-09-07
发明(设计)人: 许志维;吕金盛;徐光宏;林镇雍;林水典;林俊宏 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;G06F17/50
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 王一斌
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种具有防止制程污染的制造系统,其包括多个制程机台、污染属性确认系统及污染防制系统。上述制程机台用以处理在制品,其具有贡献污染属性设定值及拒绝污染属性设定值。上述污染属性确认系统用以确认上述贡献/拒绝污染属性设定值的设定为正确。上述污染防制系统于上述制程机台接受上述在制品前,检查上述在制品的第一产品污染属性设定值是否符合上述拒绝污属性设定值,并于上述制程机台接受及处理上述在制品时,根据上述贡献污染属性设定值,对上述产品污染属性设定值分别产生中途污染属性设定值及第二产品污染属性设定值。
搜索关键词: 具有 防止 污染 制造 系统 处理 方法
【主权项】:
1、一种具有防止制程污染的制造系统,其包括:多个制程机台,分别用以处理至少一在制品,每一上述制程机台具有一贡献污染属性设定值以及一拒绝污染属性设定值,每一上述在制品具有一第一产品污染属性设定值;一污染属性确认系统,用以进行产品导入/输出仿真处理,以确认上述制程机台的上述贡献污染属性设定值及上述拒绝污染属性设定值的设定为正确;以及一污染防制系统,其是于上述每一制程机台接受上述在制品之前,检查上述第一产品污染属性设定值是否符合上述制程机台的上述拒绝污属性设定值,当符合时则拒绝接受上述在制品,并于上述每一制程机台接受上述在制品时,根据上述制程机台的上述贡献污染属性设定值,对上述产品污染属性设定值产生上述在制品的一中途污染属性设定值,并于上述每一制程机台处理上述在制品后,根据上述制程机台的上述贡献污染属性设定值,对上述产品污染属性设定值产生上述在制品的一第二产品污染属性设定值。
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