[发明专利]具有防止制程污染的制造系统与处理方法有效
申请号: | 200410083729.6 | 申请日: | 2004-10-14 |
公开(公告)号: | CN1664985A | 公开(公告)日: | 2005-09-07 |
发明(设计)人: | 许志维;吕金盛;徐光宏;林镇雍;林水典;林俊宏 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;G06F17/50 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王一斌 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种具有防止制程污染的制造系统,其包括多个制程机台、污染属性确认系统及污染防制系统。上述制程机台用以处理在制品,其具有贡献污染属性设定值及拒绝污染属性设定值。上述污染属性确认系统用以确认上述贡献/拒绝污染属性设定值的设定为正确。上述污染防制系统于上述制程机台接受上述在制品前,检查上述在制品的第一产品污染属性设定值是否符合上述拒绝污属性设定值,并于上述制程机台接受及处理上述在制品时,根据上述贡献污染属性设定值,对上述产品污染属性设定值分别产生中途污染属性设定值及第二产品污染属性设定值。 | ||
搜索关键词: | 具有 防止 污染 制造 系统 处理 方法 | ||
【主权项】:
1、一种具有防止制程污染的制造系统,其包括:多个制程机台,分别用以处理至少一在制品,每一上述制程机台具有一贡献污染属性设定值以及一拒绝污染属性设定值,每一上述在制品具有一第一产品污染属性设定值;一污染属性确认系统,用以进行产品导入/输出仿真处理,以确认上述制程机台的上述贡献污染属性设定值及上述拒绝污染属性设定值的设定为正确;以及一污染防制系统,其是于上述每一制程机台接受上述在制品之前,检查上述第一产品污染属性设定值是否符合上述制程机台的上述拒绝污属性设定值,当符合时则拒绝接受上述在制品,并于上述每一制程机台接受上述在制品时,根据上述制程机台的上述贡献污染属性设定值,对上述产品污染属性设定值产生上述在制品的一中途污染属性设定值,并于上述每一制程机台处理上述在制品后,根据上述制程机台的上述贡献污染属性设定值,对上述产品污染属性设定值产生上述在制品的一第二产品污染属性设定值。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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