[发明专利]曝光方法无效
| 申请号： | 200410084035.4 | 申请日： | 2004-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1763614A | 公开（公告）日： | 2006-04-26 |
| 发明（设计）人： | 张营辉;涂志中;苏大荣;程启维;庄英鸿;刘梦骐 | 申请（专利权）人： | 中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/133;G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘亚文 |
| 地址： | 台湾省台北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种曝光方法，适用于曝光机，以期在基板上形成目标曝光图形，其中基板会受外界因素影响而变形。首先，决定基板之预设变形量，以提供对应之补正值。接着，依据补正值来调整曝光机之曝光参数。之后，通过调整后之曝光参数来对基板进行曝光，以在基板上形成补正后之曝光图形，其中补正后之曝光图形会在基板变形之后逼近目标曝光图形。此曝光方法可对基板之变形提供良好的线性或非线形补正，以提供较佳之制造合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1一种曝光方法，在基板上形成曝光图形，其特征是该基板受外界因素影响而变形，该曝光方法包括：决定该基板之预设变形量，以求得对应之补正值；依据该补正值来调整曝光机之曝光参数；以及通过调整后之该曝光参数来对该基板进行曝光，以在该基板上形成补正后之曝光图形。
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