[发明专利]硬X射线全息干涉装置无效
| 申请号： | 200410084254.2 | 申请日： | 2004-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN1609731A | 公开（公告）日： | 2005-04-27 |
| 发明（设计）人： | 陈建文;高鸿奕;李儒新;徐至展 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03H3/00 | 分类号： | G03H3/00;G01B9/02 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种硬X射线全息干涉装置，包括硬X射线同步辐射源，其特点是在该硬X射线出射方向轴对称地放置第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜，在该硬X射线方向，第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜之间放置一挡光板，经第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜反射的硬X射线方向放置一记录介质，各部件的位置关系如下：来自同步辐射源未被挡光板遮挡的硬X射线掠入射地照明第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜，从两反射镜出射以后，分成参考束和物束，物束经过待测样品以后和参考束重叠，在记录介质上发生干涉。利用本发明装置经过两次曝光，一次有待测样品，另一次无待测样品，获得硬X射线全息图，用计算机重构这张全息图可获得待测样品的位相信息。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 全息 干涉 装置 | ||
【主权项】：
1、一种硬X射线全息干涉装置，包括硬X射线同步辐射源(1)，其特征在于在该硬X射线出射方向轴对称地放置第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)，在该硬X射线方向，第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)之间放置一挡光板(4)，经第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)反射的硬X射线方向放置一记录介质(6)，各部件的位置关系如下：来自同步辐射源(1)未被挡光板(4)遮挡的硬X射线掠入射地照明第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)，从两反射镜出射以后，分成参考束和物束，物束经过待测样品(5)以后和参考束重叠，在记录介质(6)上发生干涉。
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