[发明专利]纳米半导体引发制备聚合物/无机纳米复合材料粉体的方法无效
申请号: | 200410084568.2 | 申请日: | 2004-11-25 |
公开(公告)号: | CN1631907A | 公开(公告)日: | 2005-06-29 |
发明(设计)人: | 倪秀元;董嶒;翁臻 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | C08F2/38 | 分类号: | C08F2/38;C08F2/48;C08F20/00;C08L33/00;C08K3/22 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明属于高分子材料技术领域,具体为一种光激发纳米半导体引发聚合,来制备聚合物/无机纳米复合材料粉体的方法。本发明的聚合体系组成是:(A)纳米尺度光活性半导体粉体,(B)含有一个或一个以上双键的可自由基聚合单体,(C)反应调节剂,(D)分散介质水,所述的体系在300-400nm波长的紫外光辐照下进行聚合,形成纳米尺度的聚合物/无机复合材料粉体。本发明中聚合反应与材料复合同时完成,特别适用于制备无机半导体掺杂的导电高分子复合材料,也可用于制备与光电转换、塑料加工、化妆品或涂料有关的复合材料。 | ||
搜索关键词: | 纳米 半导体 引发 制备 聚合物 无机 复合材料 方法 | ||
【主权项】:
1、一种聚合物/无机纳米复合材料粉体的制备方法,其特征在于聚合体系按重量计的组成为:(1)光催化性纳米半导体粉体 0.01-40%,(2)自由基聚合反应单体 0.01-20%,(3)反应调节剂 0.01-10%,(4)分散剂: 余量;反应调节剂采用含有可变价金离子的化合物,其步骤如下:采用光辐射激发光催化性纳米半导体,引发单体聚合,使单体在纳米颗粒表面或近表面区域聚合,形成聚合物/无机纳米复合材料粉体。本发明的制备方法不需要外加自由基引发剂。
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