[发明专利]偏振薄膜及其制造方法、偏振片以及光学层压体有效
| 申请号： | 200410085161.1 | 申请日： | 2004-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN1595211A | 公开（公告）日： | 2005-03-16 |
| 发明（设计）人： | 山根尚德;网谷圭二;藤本清二;松元浩二 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/10;B29C55/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曹雯;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种色斑少的偏振薄膜。一种偏振薄膜，通过包括如下操作的方法制得：依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸，并进一步在拉伸处理后的各个工序中，分别将施加在上述薄膜上的张力基本保持固定。一种偏振薄膜的制造方法，该方法包括连续地、依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸，在拉伸处理后的各个工序中，对上述薄膜进行张力控制。结果，可以使薄膜运行稳定，并减少色斑。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 薄膜 及其 制造 方法 以及 光学 层压 | ||
【主权项】：
1.一种偏振薄膜，通过如下操作制得：依次对聚乙烯醇类薄膜进膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸，并进一步在拉伸处理后的各个工序中，将施加在上述薄膜上的张力分别基本保持恒定。
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