[发明专利]偏振薄膜、偏振片以及光学层压体的制备方法有效
| 申请号： | 200410085163.0 | 申请日： | 2004-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN1616996A | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | 网谷圭二;松元浩二;山根尚德;藤本清二 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曹雯;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供可以显示更加中性的黑色的偏振薄膜的制备方法、偏振片的制备方法以及光学层压体的制备方法。偏振薄膜的制备方法包括，将碘吸附定向在聚乙烯醇类薄膜上后，在含硼酸的水溶液中进行多步浸渍处理，从而制得偏振薄膜，其特征在于：含硼酸的水溶液是(1)相对于100重量份的水，含有3－10重量份的硼酸以及1－20重量份的碘化物、温度为50－70℃的水溶液，以及(2)相对于100重量份的水，含有1－5重量份的硼酸以及3－30重量份的碘化物、温度为10－45℃的水溶液，经(1)的含硼酸水溶液处理后，再由(2)的含硼酸水溶液处理，与(1)的含硼酸水溶液相比(2)的含硼酸水溶液的碘化物浓度更高，并且硼酸的浓度更低，此外，温度也更低。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 薄膜 以及 光学 层压 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包括下述步骤的偏振薄膜的制备方法，将碘吸附定向在聚乙烯醇类薄膜上后，在含硼酸的水溶液中进行多步浸渍处理，从而制得偏振薄膜，其特征在于：含硼酸的水溶液包括(1)相对于100重量份的水，含有3-10重量份的硼酸以及1-20重量份的碘化物、温度为50-70℃的水溶液，以及(2)相对于100重量份的水，含有1-5重量份的硼酸以及3-30重量份的碘化物、温度为10-45℃的水溶液，在经(1)含硼酸水溶液处理后，再由(2)的含硼酸水溶液处理时，与(1)的含硼酸水溶液相比，(2)的含硼酸水溶液的碘化物浓度更高，并且硼酸的浓度更低，此外，温度也更低。
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